濺射功率和退火時(shí)間對Ca2Si薄膜結構特性的影響

全部作者： 任雪勇 謝泉 楊吟野 肖清泉 楊創(chuàng )華 曾武賢 梁艷 第1作者單位： 貴州大學(xué)（花溪北校區） 電子科學(xué)與信息技術(shù)學(xué)院 論文摘要： 采用射頻磁控濺射技術(shù)在Si（100）襯底上制備出Ca2Si薄膜，研究了濺射功率和退火時(shí)間對薄膜的晶體結構、表面形貌的影響。X-射線(xiàn)衍射（XRD）譜和掃描電子顯微鏡（SEM）圖像表明：Ca2Si薄膜為立方結構，且具有非常好的沿(111)向擇優(yōu)生長(cháng)的特性。隨著(zhù)濺射功率的增加，X-射線(xiàn)衍射峰的強度逐漸變強，半高寬（FWHM）減小，平均晶粒尺寸增加；隨著(zhù)退火時(shí)間的增加，雖然衍射峰半高寬（FWHM）減小，平均晶粒尺寸增加，但是X-射線(xiàn)衍射峰的強度逐漸變弱。 關(guān)鍵詞： 無(wú)機非金屬材料，Ca2Si薄膜，射頻磁控濺射，濺射功率，退火時(shí)間 (瀏覽全文) 發(fā)表日期： 2007年08月20日 同行評議：

（暫時(shí)沒(méi)有）

綜合評價(jià)： （暫時(shí)沒(méi)有） 修改稿：

【濺射功率和退火時(shí)間對Ca2Si薄膜結構特性的影響】相關(guān)文章：

濺射功率對Ca2Si薄膜性質(zhì)的影響03-07

Ca2Si電子結構和光學(xué)性質(zhì)的研究03-07

大功率變頻電源輸出特性和實(shí)驗分析03-19

化學(xué)浴沉積ZnSe薄膜及其光學(xué)特性研究03-07

高壓大功率變換器拓撲結構的演化及分析和比較03-19

溶膠凝膠法制備摻銻二氧化錫薄膜的光電特性和表面形貌03-07

手術(shù)時(shí)間對全麻腹部術(shù)后康復的影響和護理對策03-19

體育旅游業(yè)的發(fā)展對區域經(jīng)濟和產(chǎn)業(yè)結構的影響12-06

影響護士靜脈穿刺成功率的因素及對策03-06